Размеры элементов на негативе и на биметаллической маске

После этого пленка задубливается и подвергается термообработке. Обратная сторона основы покрывается тонким слоем лака, после чего производится электрохимическое никелирование той стороны основы, которая покрыта фоторезистом. Фоторезист препятствует осаждению никеля на те места заготовки, которые

Достоинства масок из тантала, молибдена и вольфрама

За последнее время для этой цели начинаю использовать тантал, молибден, вольфрам, инвар и графит. К достоинствам масок из тантала, молибдена и вольфрама следует отнести инертность к напыленным материалам

Процесс экспонирования

Последнее необходимо по той причине, что в жидком состоянии фоторезист обладает незначительной чувствительностью к свету, которая резко повышается при переходе его в твердое состояние. Неудаленный растворитель затрудняет образование

Облучение пленки негативного фоторезиста

При облучении пленки негативного фоторезиста через фотошаблон в полимере протекают пропессы, приводящие к потере растворимости (например, реакпия сшивания) 01блученных участков пленки. При этом после обработки

Напольная плитка, керамическая плитка для пола

Чтобы Ваша квартира после ремонта выглядела идеально, необходимо приложить немалые усилия. Одним из наиболее важных вопросов во время ремонта является выбор облицовочной керамической плитки.

Уменьшение потерь в фидере

В этом случае согласование осуществляется за счет соответствующего выбора коэффициента трансформации ВЧ трансформатора. Для уменьшения потерь в фидере он может быть сделан жестким, с воздушным диэлектриком, а внутренний проводник для уменьшения